prikaz prve stranice dokumenta Površinska svojstva i otapanje koloidnih čestica SiO2
  Preuzmi
PDF 2.11 MB
diplomski rad
Površinska svojstva i otapanje koloidnih čestica SiO2
Zagreb: Sveučilište u Zagrebu, Prirodoslovno-matematički fakultet, 2023. urn:nbn:hr:217:118971
Hasenay, Dragutin
Sveučilište u Zagrebu
Prirodoslovno-matematički fakultet
Kemijski odsjek

Institucijski repozitorij: Repozitorij Prirodoslovno-matematičkog fakulteta

Citirajte ovaj rad

Hasenay, D. (2023). Površinska svojstva i otapanje koloidnih čestica SiO2 (Diplomski rad). Zagreb: Sveučilište u Zagrebu, Prirodoslovno-matematički fakultet. Preuzeto s https://urn.nsk.hr/urn:nbn:hr:217:118971

Hasenay, Dragutin. "Površinska svojstva i otapanje koloidnih čestica SiO2." Diplomski rad, Sveučilište u Zagrebu, Prirodoslovno-matematički fakultet, 2023. https://urn.nsk.hr/urn:nbn:hr:217:118971

Hasenay, Dragutin. "Površinska svojstva i otapanje koloidnih čestica SiO2." Diplomski rad, Sveučilište u Zagrebu, Prirodoslovno-matematički fakultet, 2023. https://urn.nsk.hr/urn:nbn:hr:217:118971

Hasenay, D. (2023). 'Površinska svojstva i otapanje koloidnih čestica SiO2', Diplomski rad, Sveučilište u Zagrebu, Prirodoslovno-matematički fakultet, citirano: 22.11.2024., https://urn.nsk.hr/urn:nbn:hr:217:118971

Hasenay D. Površinska svojstva i otapanje koloidnih čestica SiO2 [Diplomski rad]. Zagreb: Sveučilište u Zagrebu, Prirodoslovno-matematički fakultet; 2023 [pristupljeno 22.11.2024.] Dostupno na: https://urn.nsk.hr/urn:nbn:hr:217:118971

D. Hasenay, "Površinska svojstva i otapanje koloidnih čestica SiO2", Diplomski rad, Sveučilište u Zagrebu, Prirodoslovno-matematički fakultet, Zagreb, 2023. Dostupno na: https://urn.nsk.hr/urn:nbn:hr:217:118971

Za citiranje koristite ovu mrežnu adresu: https://urn.nsk.hr/urn:nbn:hr:217:118971
Podaci o radu
NaslovPovršinska svojstva i otapanje koloidnih čestica SiO2
Naslov (engleski)Surface properties and dissolution of SiO2 colloid particles
AutorDragutin Hasenay
MentorTajana Begović (mentor)
Član povjerenstvaTajana Begović (predsjednik povjerenstva)
Član povjerenstvaIvan Nemet (član povjerenstva)
Član povjerenstvaĐani Škalamera (član povjerenstva)
Član povjerenstvaJosip Požar (član povjerenstva)
Ustanova koja je dodijelila
akademski / stručni stupanj		Sveučilište u Zagrebu
Prirodoslovno-matematički fakultet
(Kemijski odsjek)
Zagreb
Datum i država obrane2023-02-24, Hrvatska
Znanstveno / umjetničko
područje, polje i grana		PRIRODNE ZNANOSTI
Kemija
Sažetak
Mjerena su površinska svojstva i otapanje čestica amorfne silike veličine 200 nm. Metodom potenciometrijske masene titracije određen je interval u kojem se nalazi točka nul-naboja. Metodom elektroforeze određena je izoelektrična točka čestica silike u vodenoj otopini pri dvije ionske jakosti u prisutnosti i odsutnosti otopljene silikatne kiseline. Proces otapanja koloidnih čestica silike u vodenim otopinama različite pH vrijednosti praćen je metodama dinamičkog i statičkog raspršenja svjetlosti te spektrometrijom masa uz induktivno spregnutu plazmu. Silika se otapa otpuštanjem SiO(OH)+ i OH– iona s površine pri čemu nastaju nabijene praznine koje mijenjaju površinski naboj. Površinski naboj određuje brzinu otapanja silike. Nastanak pozitivno nabijenih praznina ubrzava otpuštanje SiO(OH)+, a nastajanje negativno nabijenih praznina ubrzava otpuštanje OH– iona. Brzina otapanja amorfne silike povećava se od rc ≈ 10– 16 mol s–1cm–2(pri pH = 3) do rc ≈ 10–14 mol s–1cm–2(pri pH = 11). Vrijednosti brzine otapanja uspoređene su s empirijskom jednadžbom za otapanje amorfne silike prethodno predloženoj u literaturi.
Sažetak (engleski)
Surface properties and dissolution of 200 nm amorphous silica particles were measured. The interval of point of zero charge of silica particles in aqeous solutions was determined by means of potentiometric mass titration. The isoelectric point was determined electrophoreticaly at two ionic strenghts, and in the presence and the absence of dissolved silicic acid. Dissolution process of silica particles in aqueous solutions with different pH values was monitored by means of dynamic and static light scattering, and inductively coupled plasma - mass spectrometry. Silica dissolution occurs via removal of SiO(OH)+, and OH– from the silica surface. Surface charge regulates the rate of silica dissolution. Creation of positively charged vacancies accelerates the removal of SiO(OH)+, while creation of negatively charged vacancies accelerates the removal of OH– ions. The rate of dissolution i.e. the rate of cation removal from silica surface, increases from rc ≈ 10–16 mol s–1cm–2 (at pH = 3) to rc ≈ 10–14 mol s–1cm–2(at pH = 11). The values of dissolution rate were compared with previously proposed empirical equation for amorphous silica dissolution.
Ključne riječi
Ključne riječi (engleski)
Jezikhrvatski
URN:NBNurn:nbn:hr:217:118971
ProjektŠifra: IP-2020-02-9571
Naziv: Fizikalna kemija procesa na međupovršini mineral/otopina (poli)elektrolita
Naziv: Physical chemistry of processes at mineral/(poly)electrolyte solution interface
Kratica: POLYMIN2
Voditelj: Tajana Begović
Pravna nadležnost: Hrvatska
Financijer: HRZZ
Linija financiranja: IP
Studijski programNaziv: Kemija; smjerovi: istraživački
Smjer: istraživački
Vrsta studija: sveučilišni
Stupanj studija: diplomski
Akademski / stručni naziv: magistar/magistra kemije (mag. chem.)
Vrsta resursaTekst
Način izrade datotekeIzvorno digitalna
Prava pristupaOtvoreni pristup
Datum isteka embarga: 2024-08-24
Uvjeti korištenjaIkona licence Zaštićeno autorskim pravom.
Datum i vrijeme pohrane2023-03-21 13:52:04